存儲器大廠美光(Micron) 20納米制程64GB芯片量產,128GB芯片將于2012年量產,對于固態硬盤(SSD)領域布局越來越積極,尤其在控制芯片零組件上,目前美光主要采用Marvell解決方案,NAND解決方案事業部門營銷總監Kevin Kilbuck指出,未來S
SD卡控制芯片將一部分采in-house自制,一部分與策略合作伙伴合作,且不排除與臺廠,市場預期群聯、慧榮、擎泰皆有機會合作。
美光在NAND Flash領域布局3方進行,一方面與英特爾(Intel)在新加坡的IMFT晶圓廠啟動,目前單月產能約6萬片,美光約可分得80%產能,且該廠房以25納米制程為主。
第2方面,IMFT在美國猶他廠目前已領先導入20納米制程技術,等20納米制程成熟后,會將技術轉至新加坡廠;美光宣示要保持過去在34納米和25納米領先的態勢;第3,在SSD策略上越來越積極,將分為消費端Client SSD和企業端Enterprise SSD分頭并進。
隨著美光加速布局SSD,牽動其控制芯片策略,以過去美光NAND Flash產品上的習慣,多是采外購的控制芯片,但SSD產品在線會考慮用in-house產品,一部分原因也是想掌握產品的質量。
美光
SD卡工廠目前在SSD產品技術分為34納米、25納米和20納米制程,2010年以34納米為主,共推出P300和C300產品兩款;2011年進入25納米制程,包括主流SSD產品、加密型SSD產品;2012年會進入20納米制程,且進入mSATA市場,屆時可望搭上Ultrabook商機。
Kilbuck表示,美光和英特爾旗下20納米制程的64GB芯片量產后,20納米的128GB芯片日前也正式問世,預計8片裸片可達到1TB儲存容量,是現有20納米64GB芯片的雙倍,而128GB芯片也符合ONFi 3.0規范的要求,可達到333MT/s的傳輸速度,未來應用面會朝平板計算機(Tablet PC)、智能型手機(Smartphone)和大容量固態硬盤(SSD)邁進。
美光在20納米制程是采用平面式單元結構(Planar Cell Structure),將High-K Metal Gate(HKMG)技術集成至芯片結構中,突破傳統NAND Flash技術的傳統浮動閘(Floating Gate)架構,未來將再采3D NAND用堆疊式的技術作法。
待未來20納米的128GB芯片成為主流后,將可大量用于運端運算用的服務器,還有平板計算機、智能型手機等行動裝置,以及對于高畫質影片的需要增溫,皆需要龐大的儲存容量。